・開発商品
弊社では長年培ってきた精密有機合成技術と自社製品であるDIBOC®、DIAOC®、WSC®の融合により、BOCアミノ酸、AOC誘導体、ペプチド等の医薬品中間体はもちろんのこと、 フォトレジスト材料や超微細加工用材料といったエレクトロニクス材料・先端技術材料 及び、化粧品添加剤等、幅広い分野において研究・開発を行っております。プロトン中和剤
フォトレジスト材料の暗所保管時における酸発生剤の分解による劣化（暗反応）防止用添加剤として、 N-保護化合物の開発に成功いたしました。
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光酸発生剤CTPAG®
これまでのフォトレジスト用光酸発生剤の酸発生メカニズムではなく、全く新しい発想に よる新規光酸発生剤の開発に成功いたしました。保存安定性に優れ、酸発生効率の高い優れた光酸発生剤です。
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サンプルについて
上記製品につきまして、サンプルの出荷も可能です（一部有償）。詳しくはお問い合わせください。