・製品概要
光酸発生剤 EEPAG®
(Enol Ester Photo Acid Generator)
(Enol Ester Photo Acid Generator)
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光酸発生剤はリトグラフをはじめとする多用な工業工程でその重要度が日々高まっています。こうした重要性の向上にも拘わらず、光酸発生剤として機能
する分子の構造には制限があり、工業的に有効に使用することができる光酸発生剤
はそれほど多くはないのが現状です。
光酸発生剤として一般に使用されている化合物にトリアリールスルホニウム塩 などがありますが，これはイオン性のため媒体との相溶性に難点があり、 光酸発生剤として適用できる媒体に限りがあります。
イオン性ではない中性の有機分子からできた光酸発生剤としては、弊社CTPAG® などがありますが、対応波長が固定されてしまうという難点がありました。
今回弊社が開発いたしました光酸発生剤 EEPAG® はこれらの問題を大きく 改善させるものであります。
従来の光酸発生剤に比べ有機媒体への相溶性が高く保存安定性に優れ、また照射波長に柔軟に対応できる大変優れた性能を有しています。