・製品概要
光酸発生剤 CTPAG®
(Camphar type photo acid generater)
(Camphar type photo acid generater)
-
近年、集積回路の集積度はますます高まる傾向にあり、それに伴い半導体基盤の微細加工技術も進歩しております。
微細加工の解像度は露光光の波長に比例するため、近年はKrFエキシマレーザー （248 nm）、さらにはArFエキシマレーザー（193 nm)へと短波長化が進められております。
これらの波長に対応する化学増幅型レジスト用光酸発生剤（ スルホニウム塩誘導体）がいくつか開発され、実際に使用されてはおりますが、 有機溶媒に対する相溶性や保存時の安定性（対求核剤や熱）等の基本条件を全てにおいて満足させるものはいまだ開発されておりません。
そこで弊社では、これらの諸問題を一気に解決する光酸発生剤の開発に取り組んでまいりましたが、この度全くの新発想に基づく画期的な優れた光酸発生剤の開発に成功いたしました。
従来の光酸発生剤に比べ、有機媒体への相溶性が高く存安定性に優れ、またArFエキシマレーザーのような次世代微細加工技術にも対応可能な大変優れた性能を有しているため、半導体基盤の微細加工の最先端での利用が期待されます。