・製品特徴

光酸発生剤　CTPAG®
(Camphar type photo acid generater)
  • 化合物の構造がイオン性ではなく中性の有機分子から構成されている ので有機媒体との相溶性が高く、樹脂などの有機媒体に対して任意の割合で、かつ極めて均一に分散させることができます。
    その結果、成形パターンのエッジが粗くなることもなく、極めて高精度の 微細加工が可能となります。

    　　　　　　　
  • 立体構造（ビシクロ骨格と-SO2Ｒの位置関係）により、非共有電子対を持つ官能基を有する樹脂などの有機成分や水などの求核性物質と 共存しても、保存時または使用時に求核置換反応することがないので 非常に保存安定性に優れております。


  • 特定のビシクロ骨格のため、酸による-SO2Ｒの切断以外に-SO2Ｒ の脱離反応が抑制されているため、熱に対し安定です。


  • 求核剤および熱に対して安定でありますが、光を照射することにより容易にスルホン酸を発生させることができます。その反応機構として下記式が推定されます。



  • 即ち、光酸発生剤Ａに対して光を照射すると、まずビラジカルＢが生成します。この光開裂反応はノリッシュⅠ（Norrish Ⅰ）タイプと呼ばれるもので、カルボニル基と隣接炭素がラジカル的に開裂する光反応です。続いてビラジカルＢは分子的に不均化して化合物Ｃを与えますが、Ｃにおいてブレッド則が成立していないため、－ＯＳＯ２Ｒ基 とプロトンが脱離し、スルホン酸（ＨＯＳＯ２Ｒ）が生成します。


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